摻硼金剛石（BDD） 返回列表頁

摻硼金剛石膜（BDD）具有非常寬的電化學電勢窗口和較小的背景電流，加上金剛石良好的化學惰性（常溫下不與任何酸堿介質反應），不易結垢，因此是電化學電極材料的。BDD電極已經廣泛應用于污水處理、電解和電化學合成，以及基于電化學原理的探測器、傳感器。

產品應用：

附著在金屬電極上的摻硼金剛石涂層存在以下缺點：不能保證消除缺陷，尤其是在角部和邊緣處，存在破壞氣密密封的可能，金屬襯底容易被腐蝕。

增大的應力/失配應力使金剛石涂層存在破損脫落的可能。我司采用BDD自支撐膜，可以解決以上問題。

產品參數：

自支撐BDD的厚度范圍為200~1000 μm，此厚度可以脫離基材獨立使用，避免了膜基分離引起的BDD電極失效；

BDD電極的電阻率為1016 Ω?cm，最小可達9×10³ Ω?cm；

機械性能優良，化學性質穩定，有耐腐蝕性能，可以長期應用在各類檢測環境；

適用性廣，可根據電極應用的技術要求靈活調整其物理化學性能指標(如電阻率、厚度等)。